Elementi di portfolio
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Park FX200
FX-200 AFM per campioni di grandi dimensioni
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MPO 100
MPO 100 è uno strumento multiutente per litografia 3D e microstampa 3D
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μMLA
Maskless aligner da tavolo
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Nanofrazor Scholar
Nanofabbricazione avanzata per tutti
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Nanofrazor Explore
Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match
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MLA150
Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni
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DWL 66+
Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi
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MLA300
Maskless aligner per la produzione in serie
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DWL 2000/4000
Scrittura diretta 2D e 2.5D per grandi aree