Elementi di portfolio
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FLEXTURA R&D
Il sistema Flextura R&D Cluster è una piattaforma di ricerca e sviluppo unica nel mercato
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μMLA
Maskless aligner da tavolo
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Nanofrazor
Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match
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MLA 150
Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni
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DWL 66+
Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi
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MLA 300
Maskless aligner per la produzione in serie
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DWL 2000 GS/DWL 4000 GS
Scrittura diretta 2D e 2.5D per grandi aree
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ULTRA
Laser Mask Writer per i semiconduttori