Elementi di portfolio
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DWL 66+
Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi
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MLA 300
Maskless aligner per la produzione in serie
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DWL 2000 GS/DWL 4000 GS
Scrittura diretta 2D e 2.5D per grandi aree
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ULTRA
Laser Mask Writer per i semiconduttori
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Microscopio a forza atomica NX10
Il microscopio AFM NX10 di Park System, garantisce accuratezza della costruzione dell’immagine, velocità di scansione, e una durata del tip ineguagliabile