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Nuovo AFM da Park Systems per le misure elletrochimiche implementa le tecniche SECM (Scanning Electro-Chemical Microscope), SECCM (Scanning Electro-Chemical Cell Microscope) e anche EC-STM (Electro-Chemical -Scanning Tunneling Microscope). Per maggiori informazioni consulate la pagina dedicata
È con piacere che annunciamo che Oxford Instruments Plasma Technology ha ricevuto il premio “High Volume Manufacturing” al CS Industry Awards tenutosi il 7 Marzo 2017 a Bruxelles. Il premio mette in evidenza lo sviluppo del processo per la realizzazione di via su SiC tramite incisione al plasma, utilizzando il loro sistema denominato PlasmaPro100 Polaris. […]
Il sistema PE-ALD di Atomfab offre un processo ALD al plasma veloce, a basso danno e a bassa produzione di CoO per dispositivi GaN di potenza e RF.
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