Che cos’è la PLD?

La Laser Pulsed Deposition (PLD) è una tecnica versatile di deposizione di film sottili. Un laser a impulsi (larghezza di impulso di ~20 ns) fa evaporare rapidamente il materiale del target formando un film sottile che mantiene la composizione del target. Questa capacità unica di trasferimento stechiometrico della composizione del target nel film è stata realizzata per la prima volta dal gruppo di ricerca guidato dal Dr. Venkatesan presso la Bell Communications Research, NJ, USA, quasi 30 anni fa, durante la deposizione di film sottili superconduttori ad alta temperatura (YBa2Cu3O7). Da allora, la PLD è diventata la tecnica di deposizione preferita quando si considerano film sottili di composizioni di materiali complessi. Un’altra caratteristica unica della PLD è la sua capacità di prototipazione rapida dei materiali. La sorgente di energia (laser pulsato), essendo esterna alla camera di deposizione, facilita un’ampia gamma dinamica di pressioni operative (da 10-10 Torr a 500 Torr) durante la sintesi dei materiali. Controllando la pressione di deposizione e la temperatura del substrato e utilizzando target di dimensioni relativamente ridotte, è possibile preparare una varietà di nano-strutture e interfacce a controllo atomico con funzionalità uniche.

Sistemi PLD

Pionieer 120 PLD	Pionieer 120 PLD Advanced
Pionieer 180 PLD	Pionieer 180  Laser MBE/PLD
PLD Laser combinata	Pionieer 180 MAPLE – PLD
PLD con assistenza ionica	PLD per wafer da 8″