RFICP – cannoni ionici RF con griglia

Descrizione

I cannoni ionici RFICP producono un plasma ad alta densità senza uso di filamenti. Il fascio estratto dalla scarica viene controllato in modo preciso per fornire una forma definita, densità di corrente ed energia ionica.

Applicazioni

Deposizione assistita di fascio ionico durante evaporazione termica ed e-beam (IBAD)
Pulizia In-situ durante sputtering ed evaporazione (PC)
Modifica e attivazione superficiale (SM)
Deposizione diretta di rivestimenti sottili, duri o funzionali (DD)
Deposizione via sputtering di fasci ionici di strutture singole e multistrato (IBSD)
Attacco (etching) con fascio ionico di superfici in qualsiasi materiale (IBE)