Serie eH – cannoni ionici senza griglia

Descrizione

I cannoni ionici della serie eH emettono una corrente elevata e un fascio di energia ridotta.

La corrente ionica generata soddisfa le specifiche per elevate velocità di processo, mentre il bombardamento a ioni a bassa energia elimina i danni alle superfici e alle interfacce.

Applicazioni

Deposizione assistita di fascio ionico durante evaporazione termica ed e-beam (IBAD)
Deposizione assistita di fascio ionico nel magnetron sputtering (IBAD)
Pulizia In-situ durante sputtering ed evaporazione (PC)
Modifica e attivazione superficiale (SM)
La deposizione diretta di film sottili duri o (DD)
Attacco (etching) con fascio di ioni a bassa energia (LIBE)
Deposizione via sputtering con fascio di ioni “Biased target”(BTIBSD)