Il PlasmaPro 80 è un sistema versatile, compatto e di dimensioni ridotte per attacchi e deposizioni, senza loadlock. È facile da installare e da usare e la sua configurazione consente di caricare e scaricare rapidamente i substrati: questa caratteristica è adatta ad applicazioni nella ricerca, la prototipazione e la produzione di bassi volumi. Il sistema è in grado di fornire elevate prestazioni durante i processi grazie anche al raffreddamento ottimizzato degli elettrodi ed al preciso controllo della temperatura del substrato.
CARATTERISTICHE:
- Dimensioni ridotte – di facile installazione
- Raffreddamento ottimizzato degli elettrodi – Controllo della temperatura del substrato
- Sistema di pompaggio di tipo radiale (a simmetria assiale) ad alta conduttanza per maggiore uniformità e velocità di processo
- Registrazione delle condizioni della camera e del processo con dati < 500 ms
- Pompa turbomolecolare
- Facilità di accesso e manutenzione
- Sistema di controllo X20 –
- Diagnostica dei guasti tramite il software front-end
- End point detector interferometrico – Misura della profondità di attacco anche su materiali trasparenti e su superfici riflettenti (ad
esempio, ossidi su Si), o riflettometria su materiali non trasparenti (come metalli) per determinarne gli spessori degli strati
- Spettrometria a emissione ottica (OES) per l’end-point di campioni di grandi dimensioni o di processi in batch
PlasmaPro 80 è utilizzato per:
Processi ICP RIE
APPLICAZIONI:
- Attacchi di materiali III-V
- Bosch e cryo
- Attacco di SiO2 e quarzo
- Failure analysys
- Deposizione e incisione di maschere rigide per la produzione di LED ad alta luminosità
PROCESSI RIE
APPLICAZIONI:
- Processi di attacco per materiali III-V
- Bosch e cryo
- Deposizione di carbonio simile al diamante (DLC)
- Attacco di SiO2 e quarzo
- Failure analysys
- Deposizione e incisione di maschere rigide per la produzione di LED ad alta luminosità
Processi PECVD
APPLICAZIONI:
- PECVD di alta qualità di nitruro di silicio e biossido di silicio per la fotonica, gli strati dielettrici, la passivazione e molte altre applicazioni.
- Deposizione di maschere rigide per la produzione di LED ad alta luminosità
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