Nanofrazor Explore

Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match

Il controllo rapido e preciso di una punta termica in nanoscala offre molte possibilità uniche per la nanofabbricazione e consente innovazioni difficilmente realizzabili.

Il Nanofrazor Explore funziona con la massima velocità, precisione e affidabilità. La tecnologia alla base del sistema è il risultato di oltre 20 anni di intensa ricerca e sviluppo che ha avuto inizio presso IBM Research di Zurigo ed è stato esteso presso Swisslitho e Heidelberg Instruments.

Il Nanofrazor Explore è dotato del software più avanzato, per controllare i cantilever riscaldabili Nanofrazor nel miglior modo possibile, per la scrittura e l’imaging. Recentemente, l’Explore ha ricevuto un’estensione di patterning e scrittura con laser integrato per velocizzare la modellazione di strutture più grossolane. Nano- e micro caratteristiche possono ora essere facilmente e rapidamente scritte nello stesso strato del resist utilizzando la stessa piattaforma software in una singola fase di fabbricazione.

Caratteristiche principali

• Scrittura diretta della punta riscaldata con risoluzione inferiore a 15 nm
• Sublimazione laser diretta con risoluzione inferiore a 1 µm
• Imaging topografico ad alta velocità AFM in situ
• Dimensione del campione fino a 100 x 100 mm2
• Litografia closed loop
• Modellazione in scala di grigi con risoluzione senza precedenti
  e precisione inferiore a 2 nm
• Overlay e stitching senza marker utilizzando l’AFM in situ
  per un allineamento preciso
• Isolamento acustico e vibrazionale top class
• Nessuna camera pulita o ambiente di laboratorio speciale richiesto
• Consente numerose possibilità uniche che vanno oltre nanolitografia convenzionale
• Imminente: Multi-tip patterning e modulo di imaging