Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni

L’esposizione senza contatto, l’eccezionale facilità d’uso e l’alta velocità rendono il Maskless Aligner MLA150 lo strumento ideale in ambienti di prototipazione rapida, per la produzione a medio-basso volume e nella ricerca e sviluppo. La nostra tecnologia maskless, un tempo rivoluzionaria e ora all’avanguardia, si è consolidata da quando la nostra serie Maskless Aligner è stata introdotta per la prima volta nel 2015. MLA150 presenta ora l’alternativa moderna al tradizionale Mask Aligner.

La fotolitografia Maskless elimina la necessità di una fotomaschera: Il sistema espone il modello direttamente sulla superficie del resist. Qualora fossero necessarie modifiche alla progettazione, queste possono essere rapidamente implementate modificando il layout CAD, con conseguente riduzione dei tempi di ciclo. Beneficerete anche di una procedura di allineamento frontale e posteriore rapida e automatizzata, nonché di una velocità eccezionale: esporre un’area di 100 x 100 mm² con strutture piccole come 1 micron richiederà meno di 10 minuti. Le aree di applicazione del MLA150 includono scienze della vita, MEMS, micro-ottiche, semiconduttori, sensori, attuatori, MOEMS, ricerca sui materiali, nano-tubi e grafene.

Caratteristiche principali

• Dimensione minima del substrato: 3 mm x 3 mm
• Area massima di esposizione: 6″ x 6″ (facoltativo 8″x 8″)
• Dimensione minima di scrittura fino a 0,6 μm
• Velocità massima di scrittura: 1400 mm2/min a 1 μm
• Autofocus in tempo reale
• Telecamera panoramica per un rapido allineamento e ispezione
• Allineamento anteriore e posteriore
• Camera ambientale a temperatura controllata
• Lunghezze d’onda di esposizione: 405 nm e /o 375 nm
• Modalità di disegno per un’esposizione senza CAD
• Modalità di esposizione standard in scala di grigi
• Modalità High-Aspect Ratio
• Software operativo di facile utilizzo