Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi

Il sistema di litografia laser DWL 66+ è un pattern generator  ad alta risoluzione per la scrittura diretta a costi competitivi. Il sistema include opzioni potenti come l’allineamento frontale e posteriore e una scelta di lunghezza d’onda laser di 405 nm o 375 nm. Ulteriori opzioni avanzate includono la calibrazione assoluta della posizione e un sistema di carico automatico. Sono disponibili in totale sei diverse modalità di scrittura, tra cui la modalità ad alta risoluzione con una risoluzione di 300 nm. In particolare, la DWL 66+ presenta le migliori prestazioni nella modalità di esposizione in scala di grigi, dai livelli standard a quelli professionali: questa tecnica versatile per la creazione di microstrutture complesse 2.5D in strati spessi di fotoresist positivi a basso contrasto è utilizzata per applicazioni come micro-lenti, Fa, ologrammi (CGH), e superfici strutturate.

Questo sistema altamente flessibile e personalizzabile può essere adattato specificamente alla vostra applicazione – le sofisticate funzionalità del DWL 66+ lo rendono lo strumento essenziale di ricerca sulla litografia in Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Ottiche, Semiconduttori e tutte le altre applicazioni che richiedono microstrutture.

Caratteristiche principali

• Superficie massima di esposizione: 200 x 200 mm²
• Dimensione massima del substrato: 9″ x 9″
• Modalità di scrittura multipla
• Dimensione minima di scrittura: fino a 300 nm
• Massima velocità di scrittura (a 4 µm): 2000 mm²/min
• Address grid fino a 5 nm
• Modalità di esposizione in scala di grigi con fino a 1000 livelli di grigio
• Modalità di esposizione a scansione vettoriale e raster
• Formati di input di dati multipli
• Allineamento anteriore e posteriore
• Camera climatica
• Due scelte di lunghezza d’onda laser (405 nm o 375 nm)
• Sistema di messa a fuoco automatica in tempo reale
• Capacità di scripting
• Sistema telecamera integrato per la misurazione e l’ispezione