Oxford Instruments Plasma Technology – Sistemi di attacco e deposizione via plasma

Prodotti

Atomfab

Il sistema PE-ALD di Atomfab offre un processo ALD al plasma veloce, a basso danno e a bassa produzione di CoO per dispositivi GaN di potenza e RF.

ptiq software

PTIQ è la più recente soluzione software intelligente per i sistemi Plasma Technology

Sistema ALD FlexAL

FlexAL® sistema ALD remoto e termico combinato per processi su nanoscala

PlasmaPro 100 Nano CVD

Sistema Nanofab CVD PECVD per nanomateriali

PlasmaPro ASP

Basato su una piattaforma collaudata dalla produzione per la R&S aziendale/specializzata

PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

La piattaforma PlasmaPro 100 Estrelas è stata progettata per offrire una flessibilità totale per le applicazioni di Deep Reactive Ion Etching (DRIE)

Partner

Oxford Instruments progetta, fornisce e supporta strumenti e sistemi ad alta tecnologia per la ricerca e le applicazioni industriali. L’innovazione è stata la forza trainante della crescita e del successo di Oxford Instruments per 60 anni, sostenendo il suo scopo principale di affrontare alcune delle sfide più pressanti del mondo.

La tecnologia al plasma di Oxford Instruments offre strumenti di processo flessibili e configurabili e processi all’avanguardia per l’incisione, la deposizione e la crescita precise e controllabili.

Queste soluzioni si basano su tecnologie di base per la deposizione e l’incisione al plasma, la deposizione e l’incisione a fascio ionico, la deposizione e l’incisione a strato atomico, l’incisione profonda del silicio e la deposizione fisica da vapore. I prodotti vanno dai sistemi compatti stand-alone per la ricerca e lo sviluppo, agli strumenti batch, fino alle piattaforme cluster di cassette per la produzione ad alta produttività.