Sistemi di processoSistemi di litografia Cannoni ionici ed elettronici Impianti industriali in vuoto Reattori al plasma Sistemi di attacco e deposizione in vuoto Sistemi e processi di coating speciali Caratterizzazione superficialeDifrattometri XRD Microscopia a forza atomica AFM Campioni di Calibrazione Analisi di Superficie e Chimica Misure di spessore, profili, rugosità, stress, resistività nanoindentazione Strumentazione controllo di processoAlimentatori RF e DC – Generatori di Ozono Analisi emissioni gas di scarico Analisi gas Componentistica da vuoto e fasce riscaldanti Misura e controllo vuoto, pressione e flussi Ricerca delle fughe Prodotti di consumoFluidi, Oli e Grassi per applicazioni speciali Target e materiale da Evaporazione Wafer e cristalli di silicio
Novembre 30, 2023/da gambettiOrdini significativi dei nostri sistemi GaN ALE e ALD Oxford Instruments riceve ordini per sistemi GaN ALE e ALD da diverse importanti fonderie giapponesi di elettronica di potenza e RF
Agosto 29, 2023/da gambettiOxford Instruments ha rilasciato un innovativo sistema ALD ultraveloce, per la Quantum Technology e la Ricerca e Sviluppo Avanzata