Il sistema di litografia laser da tavolo µMLA è dotato della tecnologia maskless di Heidelberg Instruments, e è lo strumento di base perfetto per la ricerca e sviluppo, praticamente in tutti i settori che richiedono microstrutture.
Esempi tipici sono la microfluidica, micro ottica, sensori, MEMS e scienza dei materiali. Il µMLA è flessibile e personalizzabile come nessun altro strumento di scrittura diretta da tavolo e supporta l’uso di campioni di dimensioni millimetriche.
Seleziona la modalità di esposizione di cui hai bisogno o equipaggia il tuo µMLA con Il modulo di esposizione Raster Scan che fornisce un’esposizione veloce con una velocità indipendente dalla complessità del progetto. Mentre il modulo vettoriale espone curve continue, creando contorni lisci vitali per applicazioni come le guide d’onda. Inoltre, il µMLA offre una scelta di 3 configurazioni ottiche con diverse gamme di throughput e risoluzione variabile. All’interno della vostra configurazione ottica il software consente una facile commutazione tra tre configurazioni, ottimizzando risoluzione e velocità in base alle vostre esigenze.
CARATTERISTICHE PRINCIPALI
Dimensioni del substrato: da 5 mm a 6″
Dimensione minima di scrittura: fino a 0,6 µm
Velocità massima di scrittura (risoluzione 6 µm): 300 mm2/min
Sistema di messa a fuoco automatica in tempo reale
Allineamento frontale
Software di facile utilizzo
3 configurazioni ottiche disponibili
Scelta del modulo di esposizione: scansione raster e/o vettoriale
Risoluzione variabile
Modalità di disegno
Lunghezze d’onda (Raster Scan): 390 nm o 365 nm lunghezza d’onda di esposizione
Lunghezze d’onda (Vector Scan): 405 nm e/o 375 nm
Telecamera panoramica per allineamento e ispezione